分辨率最高可達0.6 nm!國儀量子超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡SEM5000X
#NEWS超高分辨場發(fā)射電鏡發(fā)布
近日,國儀量子在2023全國電鏡年會期間發(fā)布了全新的超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡SEM5000X,分辨率達到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV,進一步夯實了國產高端電鏡發(fā)展的基礎。
深度挖掘用戶需求 全新升級實現超強性能
國儀量子在服務客戶時發(fā)現,傳統(tǒng)的場發(fā)射掃描電鏡在拍攝一些特殊樣品時會出現成像質量不佳的問題。例如,納米材料的導電性較差,樣品的粒徑通常也非常小,觀測難度較高。但隨著科研水平不斷進步,對材料的觀測尺度也將不斷縮小,觀測難度愈發(fā)提高。為解決這一難題,國儀量子顯微鏡研發(fā)團隊在調研用戶需求后,基于深厚的技術儲備與產品工程化能力,推出了“挑戰(zhàn)極限”的超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡SEM5000X。
SEM5000X如何“挑戰(zhàn)極限”?
極限挑戰(zhàn)一:挑戰(zhàn)超高分辨率
SEM5000X在15 kV下分辨率優(yōu)于0.6 nm,1 kV下分辨率優(yōu)于1 nm,成功挑戰(zhàn)了熱場發(fā)射掃描電鏡的極限分辨率。
國儀量子對SEM5000X電子光學系統(tǒng)中的物鏡部分做了特殊的改進優(yōu)化,電透鏡和磁透鏡的重合度進一步提高,使得色差減小了12%、球差減小了20%,整體上提升了電鏡的分辨率。
極限挑戰(zhàn)二:不懼高難樣品
在SEM5000X產品設計中,增加了樣品臺減速模塊,采用了高壓隧道和樣品臺減速的組合,實現雙減速技術,能夠挑戰(zhàn)極限樣品拍攝場景。
極限挑戰(zhàn)三:適應復雜環(huán)境
此外,我們自研了高精度的優(yōu)中心樣品臺,采用了超穩(wěn)定的機架,還額外設計了可屏蔽環(huán)境干擾的全包圍式屏蔽系統(tǒng),使SEM5000X能夠輕松適應各種復雜環(huán)境。
產品優(yōu)勢
SEM5000X
01
超高分辨率成像,達到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV
02
樣品臺減速和高壓隧道技術組合的雙減速技術,挑戰(zhàn)極限樣品拍攝場景
03
高精度機械優(yōu)中心樣品臺、超穩(wěn)定性的機架減震設計,可搭配整體罩殼設計,極大減弱環(huán)境對極限分辨率的影響
04
最大支持8寸晶圓(最大直徑208 mm)的快速換樣倉,滿足半導體和科研應用需求
如果您需要一臺更高性能,更高分辨率的電鏡,那您一定不能錯過超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡SEM5000X。
應用案例展示
介孔二氧化硅/1 kV(Dul-Dec)/lnlens
陽極氧化鋁板/10 kV/Inlens
芯片/5 kV/BSED-COMP
腎臟切片/5 kV/BSED-COMP
泡沫鎳/2 kV/ETD-SE
藍寶石襯底/5 kV/ETD-SE
金顆粒/1 kV/Inlens
光刻膠/2 kV/ETD-SE
磁性粉末/10 kV/Inlens
二氧化硅球/3 kV/ETD-SE
催化劑/1 kV/ETD-SE
波導/1 kV/ETD-SE